Reivindicaciones
1. REIVINDICACIONES 1. - Método de fabricación de un material compuesto, con al menos una propiedad óptica regulable, que comprende las siguientes etapas: a) proporcionar un sustrato deformable elásticamente; b) proporcionar un patrón sobre al menos una porción del sustrato; c) proporcionar al menos sobre el patrón una capa activa en un rango del espectro electromagnético que comprende al menos parte del espectro visible y/o del espectro infrarrojo térmico. 2. - El método de la reivindicación 1, que además comprende, tras la etapa c), aplicar una tensión compresiva o extensiva a lo largo de al menos una dirección, de tal manera que el sustrato sufre una elongación o un acortamiento, respectivamente, a lo largo de la dirección de aplicación de la tensión. 3. - El método de la reivindicación 2, en donde la tensión aplicada se selecciona para producir una variación predeterminada de al menos una propiedad óptica del material compuesto, en base a una relación entre la tensión aplicada y la variación de dicha propiedad óptica. 4. - El método de la reivindicación 3, en donde la relación entre la tensión aplicada y la variación de dicha propiedad óptica se determina mediante un proceso de calibración que comprende: - determinar un valor de referencia de la propiedad óptica del material compuesto en ausencia de tensión; - determinar la variación de dicha propiedad óptica respecto a dicho valor de referencia en función de la tensión aplicada; y - establecer la relación entre la tensión aplicada y la variación de dicha propiedad óptica. 5. - El método de cualquiera de las reivindicaciones 2 - 4, que además comprende: - proporcionar un soporte rígido extensible y/o comprimible a lo largo de al menos una dirección; - acoplar el material compuesto al soporte rígido extensible y/o comprimible; y - fijar, por medio del soporte rígido extensible y/o comprimible, al menos una dimensión del material compuesto tras haber aplicado la tensión. 6. - El método de cualquiera de las reivindicaciones anteriores, en donde en la etapa b) el patrón se proporciona mediante microlitografía, nanolitografía, texturizado mediante tratamiento láser y/o litografía de impresión. 7. - El método de cualquiera de las reivindicaciones anteriores, en donde en la etapa c) el espesor de la capa activa se selecciona para obtener un valor predeterminado de una propiedad óptica del material compuesto, en base a una relación entre dicha propiedad óptica y el espesor de la capa activa. 8. - El método de cualquiera de las reivindicaciones anteriores, en donde el sustrato es una membrana que comprende al menos una composición polimérica, preferiblemente estirenoetileno-butileno-estireno (SEBS). 9. - El método de cualquiera de las reivindicaciones anteriores, en donde al menos una parte del sustrato comprende un coeficiente de Poisson negativo, de tal manera que: ante la aplicación de una tensión extensiva el sustrato adquiere una elongación a lo largo de una dirección perpendicular a la dirección de aplicación de la tensión, y ante la aplicación de una tensión compresiva, el sustrato adquiere un acortamiento a lo largo de una dirección perpendicular a la dirección de aplicación de la tensión. 10. - El método de cualquiera de las reivindicaciones anteriores, en donde el espesor del sustrato está comprendido en el intervalo de 100 nm a 2 mm. 11. - El método de cualquiera de las reivindicaciones anteriores, en donde el patrón proporcionado en la etapa b) es un texturizado micrométrico y/o nanométrico. 12. - El método de cualquiera de las reivindicaciones anteriores, en donde el patrón está configurado para proporcionar una respuesta óptica activa al menos en parte del espectro visible y/o del espectro infrarrojo térmico. 13. - El método de cualquiera de las reivindicaciones anteriores, en donde el patrón es un patrón unidimensional o bidimensional. 14. - El método de cualquiera de las reivindicaciones anteriores, en donde el patrón comprende una pluralidad de líneas paralelas y/o una pluralidad de estructuras columnares, y/o en donde el patrón es un patrón cuadrado, una retícula y/o una distribución periódica de agujeros. 15. - El método de cualquiera de las reivindicaciones anteriores, en donde el patrón tiene una periodicidad comprendida entre 100 nm y 10 ^m. 16. - El método de cualquiera de las reivindicaciones anteriores, en donde el tamaño del patrón está comprendido en el intervalo de 100 nm a 50 ^m. 17. - El método de cualquiera de las reivindicaciones anteriores, en donde la capa activa comprende una lámina, micropartículas, nanopartículas, microestructuras y/o nanoestructuras. 18. - El método de cualquiera de las reivindicaciones anteriores, en donde la capa activa comprende una pluralidad de nanopartículas y/o micropartículas distribuidas aleatoriamente o de acuerdo a una ordenación 1D o 2D. 19. - El método de cualquiera de las reivindicaciones anteriores, en donde la capa activa está compuesta por al menos uno de entre los siguientes materiales: un metal, un semiconductor o un material reflectante. 20. - El método de la reivindicación 19, en donde la capa activa comprende al menos una capa de oro o de aluminio. 21. - El método de cualquiera de las reivindicaciones anteriores, en donde la capa activa se proporciona mediante pulverización catódica o mediante evaporación mediante cañón de electrones. 22. - El método de cualquiera de las reivindicaciones anteriores, en donde el espesor de la capa activa está comprendido en el intervalo de 100 nm a 2 mm. 23. - Material compuesto con al menos una propiedad óptica regulable, que comprende: - un sustrato deformable elásticamente; - un patrón dispuesto sobre al menos una porción del sustrato; y - una capa activa en un rango del espectro electromagnético que abarca al menos parte del espectro visible y/o parte del espectro infrarrojo térmico dispuesta sobre el patrón. 24. - El material compuesto de la reivindicación 23, en donde el sustrato es una membrana que comprende al menos una composición polimérica, preferiblemente estireno-etilenobutileno-estireno (SEBS). 25. - El material compuesto de cualquiera de las reivindicaciones 23 o 24, en donde al menos una parte del sustrato comprende un coeficiente de Poisson negativo, de tal manera que: ante la aplicación de una tensión extensiva el sustrato adquiere una elongación a lo largo de una dirección perpendicular a la dirección de aplicación de la tensión, y ante la aplicación de una tensión compresiva, el sustrato adquiere un acortamiento a lo largo de una dirección perpendicular a la dirección de aplicación de la tensión. 26. - El material compuesto de cualquiera de las reivindicaciones 23 a 25, en donde el espesor del sustrato está comprendido en el intervalo de 100 nm a 2 mm. 27. - El material compuesto de cualquiera de las reivindicaciones 23 a 26, en donde el patrón es un texturizado micrométrico y/o nanométrico. 28. - El material compuesto de cualquiera de las reivindicaciones 23 a 27, en donde el patrón está configurado para proporcionar una respuesta óptica activa al menos en parte del espectro visible y/o del espectro infrarrojo térmico. 29. - El material compuesto de cualquiera de las reivindicaciones 23 a 28, en donde el patrón es un patrón unidimensional o bidimensional. 30. - El material compuesto de cualquiera de las reivindicaciones 23 a 29, en donde el patrón comprende una pluralidad de líneas paralelas y/o una pluralidad de estructuras columnares, y/o en donde el patrón es un patrón cuadrado, una retícula y/o una distribución periódica de agujeros. 31. - El material compuesto de cualquiera de las reivindicaciones 23 a 30, en donde el patrón tiene una periodicidad comprendida entre 100 nm y 10 ^m. 32. - El material compuesto de cualquiera de las reivindicaciones 23 a 31, en donde el tamaño del patrón está comprendido en el intervalo de 100 nm a 50 ^m. 33.- El material compuesto de cualquiera de las reivindicaciones 23 a 32, en donde la capa activa comprende una lámina, micropartículas, nanopartículas, microestructuras y/o nanoestructuras. 34.- El material compuesto de cualquiera de las reivindicaciones 23 a 33, en donde la capa activa comprende una pluralidad de nanopartículas y/o micropartículas distribuidas aleatoriamente o de acuerdo a una ordenación 1D o 2D. 35. - El material compuesto de cualquiera de las reivindicaciones 23 a 34, en donde la capa activa está compuesta por al menos uno de entre los siguientes materiales: un metal, un semiconductor o un material reflectante. 36. - El material compuesto de la reivindicación 35, en donde la capa activa comprende al menos una capa de oro o de aluminio. 37. - El material compuesto de cualquiera de las reivindicaciones 23 a 36, en donde el espesor de la capa activa está comprendido en el intervalo de 100 nm a 2 mm. 38. - El material compuesto de cualquiera de las reivindicaciones 23 a 37, fabricado por el método de cualquiera de las reivindicaciones 1 a 22. 39. - Dispositivo sensor que comprende un material compuesto según cualquiera de las reivindicaciones 23 a 38. 40.- El dispositivo sensor de la reivindicación 39, que comprende adicionalmente un soporte rígido extensible y/o comprimible a lo largo de al menos una dirección, en donde el material compuesto está acoplado al soporte rígido extensible y/o comprimible.
