A rotating system for an ion implanter comprises a rotating substrate holder compatible with the tilt angle of the implantation system and selected during rotation (1), a metal plate (2) covering the remaining area swept by the ion beam, a rotating magnetic vacuum through-wall fitting (3), and a rotating motor (4). (Machine-translation by Google Translate, not legally binding)
1. REIVINDICACIONES 1. Sistema giratorio para implantador de iones consiste en un portasustratos rotatorio compatible con el ángulo de inclinación del sistema de implantación y que ha sido seleccionado durante la rotación (1), una placa metálica (2) que cubre el resto de área barrida por el haz de iones, un pasamuros de vacío magnético giratorio (3) y un motor giratorio (4). 2. Sistema giratorio, según reivindicación 1, donde el motor giratorio (4) transfiere la rotación al portasustratos (1) a través del pasamuros magnético (3). 3. Sistema giratorio para implantador de iones, según reivindicación 1, donde la frecuencia de giro es constante e inferior a la frecuencia de rastreo del haz de iones del implantador en el eje X y el eje Y. 4. Sistema giratorio, según reivindicaciones anteriores, donde la dosis de implantación de los iones se mide teniendo en cuenta la carga eléctrica en la placa metálica y en el postasustratos. 5. Sistema giratorio, según reivindicaciones anteriores, donde el portasustratos es mecánicamente compatible con el sistema de inclinación del implantador original.