Resumen
Synthesis at low temperature of particles of the epsilon phase of iron (III) oxide as a single phase inside an amorphous silica matrix using the sol-gel method. The present invention relates to a sol-gel process for the synthesis at low temperature of a material with high purity in the epsilon phase of iron (III) oxide, ε -Fe2O <sub > 3from low cost raw materials through a one-step process and easy industrial scaling. The material obtained, whether in the form of a powder, monolith or coating, consists of nano-sized panicles embedded in an amorphous silica matrix and having properties that make it suitable for use as a permanent magnet, a catalyst for the dissociation of water, a component of electronic devices or as an absorbent of radio waves. (Machine-translation by Google Translate, not legally binding)
Reivindicaciones
1. REIVINDICACIONES 1. Sintesis a baja temperatura de partículas de la fase épsilon de óxido de hierro (I1I) como fase única dentro de una matriz de sílice amorfa empleando el método sol-5 gel que comprende las siguientes etapas: 10 a) Preparar un sol de sílice mediante la hidrólisis de alcóxidos o híbridos alquil-aJcóxido de silicio en medio hidroalcohólico. b) Añadir al sol anterior un precursor de óxido de hierro (I1I). c) Añadir un catalizador ácido o metalorgáillco hasta pH ácido. d) Añadir un co-disolvente como, por ejemplo, un poliaJcohol, amina o cianuro. e) Agitar hasta completar la hidrólisis y policondensación. t) Depositar el gel obtenido sobre un sustrato para formar una película delgada de partículas de fase épsilon de óxido de hierro (III) o sobre una 15 cubeta para formar un monolito de partículas de fase épsilon de óxido de hierro (III) g) Secar la película delgada o el monolito obtemdo. h) Tratar térmicamente la película delgada o el monolito previamente secado en atmósfera oxidante a una temperatura entre 100 oc y 1000 oc con una 20 velocidad de subida comprendida entre 1 y 5 °C/min. 25 2. Síntesis a baja temperatura de partículas de la fase épsilon de óxido de hierro (IlI), según reivindicación 1, donde el precursor de sílice es tetraortosilicato (TEOS). 3. Síntesis a baja temperatura de partículas de la fase épsilon de óxido de hierro (III), según reivindicación 1, donde el precursor de óxido de hierro (lIT) es nitrato de hierro hidratado. 30 4. Sintesis a baja temperatura de partículas de la fase épsilon de óxido de hierro (III), según reivindicación 3, donde también se añade mtrato de bario. 5. Síntesis a baja temperatura de partículas de la fase épsilon de óxido de hierro (IlI), según reivindicación 1, donde el catalizador es ácido nítrico. 6. Síntesis a baja temperatura de partículas de la fase épsilon de óxido de hierro 5 (III), según reivindicación 1, donde el pH en la etapa de hidrólisis y poli condensación es próximo a l. 10 7. Síntesis a baja temperatura de partículas de la fase épsilon de óxido de hierro (III), según reivindicaciones anteriores, donde el co-disolvente es glicerina. 8. Síntesis a baja temperatura de partículas de la fase épsilon de óxido de hierro (lIT), según reivindicaciones anteriores, donde la deposición se realiza por dip-coaling. 15 9. Síntesis a baja temperatura de partículas de la fase épsilon de óxido de hierro (I1I), según reivindicaciones anteriores, donde el sol-gel depositado se seca a una temperatura de 60 oC. 10. Síntesis a baja temperatura de partículas de la fase épsilon de óxido de hierro 20 (III), según reivindicación 8, donde el sol-gel se seca durante un tiempo 7 días para el caso de la película delgada. 11. Síntesis a baja temperatura de partículas de la fase épsilon de óxido de hierro (I1I), según reivindicación 8, donde el sol-gel se seca durante un tiempo de 30 25 días para el caso del monolito. 30 12. Síntesis a baja temperatura de partículas de la fase épsilon de óxido de hierro (III), según reivindicaciones anteriores, donde el tratamiento térmico se realiza en presencia de aire como atmósfera oxidante. 13. Síntesis a baja temperatura de partículas de la fase épsilon de óxido de hierro (I1I), según reivindicación 12, donde el tratamiento térmico se realiza con una rampa de subida de l oC/mino 14. Síntesis a baja temperatura de partículas de la fase épsilon de óxido de hierro (III), según reivindicaciones 12 y 13, donde el tratamiento térmico se realiza a una temperatura entre 350 y 960 oC.
