Resumen
The present invention relates to a new method for the realization of mip patterns on a micrometric and sub-micrometric scale by direct writing by electron beam. The mip precursor mixture contains compounds sensitive to electron irradiation and is deposited as a film on a substrate. The areas of the film irradiated with an electron beam are removed with a chemical or developer solvent. The resulting film contains the desired patterns and is polymerized using light and/or heat. The pattern synthesis method of mips of the invention allows the realization of arrays of numerous mip-based sensors on a substrate or chip of small dimensions for the simultaneous detection of multiple (bio) chemical compounds, in addition to several other applications. (Machine-translation by Google Translate, not legally binding)
Reivindicaciones
1. REIVINDICACIONES 2. 1. Método de obtención de una estructura de polímero de impronta molecular, caracterizado por que comprende las siguientes etapas: 3. (a) irradiación parcial con haz de electrones de una película formada por una mezcla precursora de polímeros de impronta molecular sobre un sustrato, 5 en que dicha mezcla precursora comprende cadenas poliméricas ramificadas; 4. (b) eliminación por revelado con un disolvente químico de las moléculas afectadas por dicha irradiación con haz de electrones, 5. (c) polimerización de la película resultado de la etapa b); y 10 6. (d) extracción de dicho analito de la película polimerizada del paso c) por lavado químico. 7. 2. Método según la reivindicación 1, caracterizado por que comprende la etapa previa de preparar dicha película sobre el substrato por técnica de espineado. 15 8. 3. Método según una de las reivindicaciones 1 ó 2, caracterizado por que dicho sustrato es una oblea de silicio. 9. 4. Método según una de las reivindicaciones 1 ó 2, caracterizado por que dicho sustrato es un vidrio. 10. 5. Método según cualquiera de las reivindicaciones 1 a 4, caracterizado por que 20 dicha irradiación de la etapa a) se realiza con una máquina de litografía por haz de electrones. 11. 6. Método según cualquiera de las reivindicaciones 1 a 5, caracterizado por que la zona no irradiada de la película resultado de la etapa a) es inferior a 1 µm en alguna de sus dimensiones. 25 12. 7. Método según cualquiera de las reivindicaciones 1 a 6, caracterizado por que dicho analito es una molécula orgánica seleccionada entre el grupo formado por péptidos, antibióticos, pesticidas, micotoxinas, drogas, colorantes, biomoléculas y moléculas sintéticas de biomoléculas. 13. 8. Método según la reivindicación 7, caracterizado por que dicha molécula 30 orgánica es un colorante. 14. 9. Método según una de las reivindicaciones 7 u 8, caracterizado por que dicha molécula orgánica es una molécula fluorófora. 15. 10. Método según cualquiera de las reivindicaciones 1 a 9, caracterizado por que dicho disolvente químico de la etapa b) es tetrahidrofurano, metanol o isopropanol, o sus mezclas. 16. 11. Método según cualquiera de las reivindicaciones 1 a 10, caracterizado por que dicha polimerización de la etapa c) se realiza por calor y/o radiación 5 electromagnética. 17. 12. Método según cualquiera de las reivindicaciones 1 a 11, caracterizado por que dicho lavado químico del paso (d) se realiza en presencia de metanol, etanol, acetonitrilo, agua, acido fórmico, ácido acético, ácido trifluoracético o sulfato de tetra-n-butilamonio, o sus mezclas. 10 18. 13. Estructura de polímero de impronta molecular, caracterizada por que presenta un área polimerizada funcional parcial.
