Procedure for the manufacture of LinbO3 optical wave guides with low propagation losses and high optical damage threshold that consists of the use of a two-phase process, the wave guides generated using this procedure have very low propagation losses thus decreasing the photorefractive sensitivity of the glass they conserve the structure of ferro-electrical domains and do not cause lithium loss.
1. 1. Procedimiento para la fabricación deguías de onda ópticas en LiNbO3 con bajas pérdidas depropagación y alto umbral de daño óptico mediantedifusión de Zn desde la fase vapor, caracterizado porestar constituido a partir de un primer proceso dondese crea una capa de 0.1 - 1 m m de profundidad con unaalta concentración de Zn, y un segundo proceso donde elZn presente en la superficie se difunde a mayoresprofundidades. 2. 2. Procedimiento para la fabricación deguías de onda ópticas en LiNbO3 con bajas pérdidas depropagación y alto umbral de daño óptico, según laprimera reivindicación, caracterizado porque puedeaplicarse a cualquier orientación cristalográfica delsubstrato de LiNbO3, y en particular a los cortes X, Y,Z. 3. 3. Procedimiento para la fabricación deguías de onda ópticas en LiNbO3 con bajas pérdidas depropagación y alto umbral de daño óptico, según laprimera reivindicación, caracterizado porque da lugar aun aumento local tanto del índice de refracciónordinario como del índice extraordinario, con cambiosde índice que pueden llegar a ser superiores al 0.5 %. 4. 4. Procedimiento para la fabricación deguías de onda ópticas en LiNbO3 con bajas pérdidas depropagación y alto umbral de daño óptico según laprimera reivindicación, caracterizado porque da lugar aun perfil gradual de índice de refracción de la formaD n(x)representa el cambio de índice en función de la profundidad,D nmax es el máximo cambio de índice provocado en lasuperficie, y d es la profundidad de penetración. 5. 5. Procedimiento para la fabricación de guías de onda ópticas en LiNbO3 con bajas pérdidas depropagación y alto umbral de daño óptico, según laprimera, segunda y tercera reivindicación,caracterizado por usar temperaturas y tiempos distintospara el primer y segundo proceso de fabricación, secontrola la profundidad y anchura los perfiles deíndice de refracción asociados al índice ordinario y alextraordinario. 6. 6. Procedimiento para la fabricación deguías de onda ópticas en LiNbO3 con bajas pérdidas depropagación y alto umbral de daño óptico, según lasreivindicaciones anteriores, caracterizado porquepresentan menor daño fotorrefractivo que las guíasfabricadas por difusión de Titanio. 7. 7. Procedimiento para la fabricación deguías de onda ópticas en LiNbO3 con bajas pérdidas depropagación y alto umbral de daño óptico, según lasreivindicaciones anteriores, caracterizado por laconservación de los iones de Litio en la superficietras el proceso de fabricación, evitando así lacreación de guías de onda no deseadas. 8. 8. Procedimiento para la fabricación deguías de onda ópticas en LiNbO3 con bajas pérdidas depropagación y alto umbral de daño óptico, según lasreivindicaciones anteriores, caracterizado por laconservación de los dominios ferroeléctricos periódicosdefinidos previamente en el cristal. 9. 9. Procedimiento para la fabricación deguías de onda ópticas en LiNbO3 con bajas pérdidas depropagación y alto umbral de daño óptico, según lasreivindicaciones anteriores, caracterizado porquemediante el empleo de máscaras convencionales permitegenerar guías de onda acanaladas.